Plošče, ki jih ne uporabimo takoj, lahko hranimo v istem eksikatorju.
Po ohladitvi v eksikatorju ga stehtajte z natančnostjo 0,1 mg.
Uporabljajo se kot sušilna sredstva v eksikatorjih, sušilnih nastavkih in plinskih izpiralkah.
Ne več kakor 0,25 % po 24-urnem sušenju nad žvepleno kislino v eksikatorju z vakuumom
Po sušenju se tehtič pokrije ter se ga karseda hitro prestavi v eksikator.
Med 115 oC in 118 oC, po sušenju z vakuumom v eksikatorju z žvepleno kislino kot sušilnim sredstvom
Ne manj kakor 99 % C6H7O6Na po 24-urnem sušenju z vakuumom nad žvepleno kislino v eksikatorju
Tehtanje Po ohladitvi se tehtič stehta v dveh minutah po njegovi odstranitvi iz eksikatorja.
Lonček se postavi v eksikator, pusti se, da se ohladi, in takoj stehta.
Vsebnost ne manj kakor 98 % po 24-urnem sušenju nad žvepleno kislino v eksikatorju z vakuumom, izraženo
Po vsakem segrevanju in pred merjenjem se lonček najprej ohladi v peči, nato pa še v eksikatorju.
izoliramo z nakisanjem in ni prekristalizirana, je od 121,5 oC do 123,5 oC po sušenju z vakuumom v eksikatorju
kisline, ki jo izoliramo z nakisanjem in ni prekristalizirana, med 121,5 oC in 123,5 oC po sušenju v eksikatorju
Posodo odstranimo iz grelne komore, hitro pokrijemo ter pustimo, da se hladi v eksikatorju 30 do 45 minut
ki jo izoliramo z nakisanjem in ni prekristalizirana: med 213 oC in 217 oC po sušenju z vakuumom v eksikatorju